世界上只有一家公司生产价值 2 亿美元的校车大小的 EUV（极紫外光刻）机器，用于在硅晶圆上蚀刻比人类头发丝还细的电路图案。这家公司就是 ASML，一家荷兰公司，去年的收入接近 260 亿美元。 EUV 机器对于制造 7 纳米以下的芯片是必要的，因为您需要蚀刻极细的线路以容纳封装在尖端芯片中的数十亿个晶体管。
佳能推出 NIL 光刻机，挑战 EUV 技术
上星期，佳能宣布据称，纳米压印光刻（NIL）技术可用于生产 5 纳米芯片。台积电和三星代工厂正在使用 EUV 机器来制造 3nm 芯片，而 ASML 的升级机器即将用于处理 2nm 生产。两家代工厂预计最快将于 2025 年生产 2nm 芯片。但是让我们回到佳能的公告，好吗？
ASML的极紫外光刻机大约有校车大小
这家日本公司解释了 NIL 的不同之处。 “与传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案不同，新产品通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，就像印章一样来实现这一点。因为它的电路图案转移过程不通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以忠实地复制在晶圆上，因此可以在单个压印中形成复杂的二维或三维电路图案。”
佳能表示，随着掩膜技术的改进，NIL 最终将能够帮助制造 2nm 芯片。目前，该技术可以蚀刻最小线宽为14纳米的电路图案，相当于5纳米的产量。佳能表示，NIL 预计将支持 10 nm 的最小线宽，这相当于使用 2 nm 工艺节点构建芯片。 NIL 不需要具有特殊波长的光源，因此可以减少制造芯片所需的功耗。
尽管发布了新闻稿，Gartner 分析师 Gaurav Gupta 表示登记册“如果佳能突然实现重大技术突破，我会感到惊讶。”纳米压印光刻的概念已经存在一段时间了，但一直存在缺陷和其他问题。内存芯片开发商 SK Hynix 和电子公司东芝早在 2015 年就签署了开发 NIL 的协议。
但这里存在一个美国必须迅速解决的问题。由于美国的制裁，ASML 不会将其 EUV 机器运送到中国，但由于 NIL 不像 EUV 那样使用尖端光学器件或镜子，佳能可能能够将该技术运送到中国，为中芯国际等代工厂提供服务（中国最大的）有能力生产5纳米，最终3纳米和2纳米芯片。
我们已经看到如何当华为推出搭载7nm麒麟9000s芯片、支持5G的Mate 60 Pro时。时至今日，仍有复杂的理论试图解释中芯国际如何在美国当前的出口禁令下制造芯片。一位 X 爆料者上周发布的一种理论是，麒麟 9000s 不是中芯国际制造的 7 纳米芯片，而是由。后者是由台积电在 2020 年禁令开始之前使用其 5nm 工艺节点制造的。
Gartner 的古普塔表示：“我们预计五年前不会产生商业影响，并且主要从存储芯片开始。在前沿节点的研发或概念能力方面存在很大差距......与大批量执行和[正在] 做好生产准备，这就是挑战。”他预计美国将很快采取行动阻止向中国出售这项技术。
